Оптимизация распределения концентрации носителей по толщине эпитаксиальных слоев
Vernadsky National Library of Ukraine
Переглянути архів Інформація| Поле | Співвідношення | |
| Title |
Оптимизация распределения концентрации носителей по толщине эпитаксиальных слоев
|
|
| Creator |
Каримов, А.В.
Ёдгорова, Д.М. Саидова, Р.А. Гиясова, Ф.А. Хайдаров, Ш.А. |
|
| Subject |
Технологические процессы и оборудование
|
|
| Description |
Модифицировано устройство для жидкостной эпитаксии полупроводниковых соединений типа АIIIВV. Показана возможность управления градиентом концентрации примесей, создающим внутренние электрические поля в фотоприемной и активной областях структур.
|
|
| Date |
2014-01-08T22:14:14Z
2014-01-08T22:14:14Z 2007 |
|
| Type |
Article
|
|
| Identifier |
Оптимизация распределения концентрации носителей по толщине эпитаксиальных слоев / А.В. Каримов, Д.М. Ёдгорова, Р.А. Саидова, Ф.А. Гиясова, Ш.А. Хайдаров // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2007. — № 6. — С. 57-61. — Бібліогр.: 12 назв. — рос.
2225-5818 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/52896 |
|
| Language |
ru
|
|
| Relation |
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
|
|
| Publisher |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
|
|